The process of depositing thin films through the ejection of material from a target in a plasma state.

एक प्रक्रिया जिसके द्वारा पतले फिल्में उन लक्ष्यों से सामग्री के निष्कासन के माध्यम से जमा होती हैं जो प्लाज्मा स्थिति में होते हैं।

English Usage: Magnetron sputtering is a common technique used in semiconductor fabrication.

Hindi Usage: मैग्नेट्रोन स्पटरिंग एक सामान्य तकनीक है जिसका उपयोग अर्धचालक निर्माण में किया जाता है।

A process in which atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles.

एक प्रक्रिया जिसमें ठोस लक्ष्य सामग्री से परमाणुओं को ऊर्जा से भरे कणों द्वारा बमबारी के कारण बाहर निकाला जाता है।

English Usage: Ion sputtering is widely used in thin film deposition.

Hindi Usage: आयन स्पटरिंग बड़ी मात्रा में पतली फिल्म जमा करने में उपयोग किया जाता है।